【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.15】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24TT0018
利用課題名 / Title
ワイドバンドギャップ半導体上の絶縁膜および電極形成
利用した実施機関 / Support Institute
豊田工業大学 / Toyota Tech.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
ALD,CVD,スパッタリング/ Sputtering,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,センサ/ Sensor,エレクトロデバイス/ Electronic device,量子効果デバイス/ Quantum effect device,スピン制御/ Spin control,量子効果/ Quantum effect,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
朽木 克博
所属名 / Affiliation
株式会社豊田中央研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
朽木 克博,三浦 篤志
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
沼田 敏典,岩田 直高,大下 祥雄
利用形態 / Support Type
（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
TT-001：スパッタ（金属、絶縁体）蒸着装置
TT-003：原子層堆積装置
TT-006：マスクアライナ装置
TT-009：シリコン専用の各種熱処理（酸化、拡散）装置一式
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
半導体中の単一光子源として期待される格子欠陥を対象として、その電気特性および発光特性を評価し、形成条件による制御方法を確立することを目的として、電極/絶縁膜/透明電極/絶縁膜/半導体からなる積層構造を作製する。
実験 / Experimental
豊田工業大学で維持管理されている装置を用いて、半導体（シリコンもしくは炭化ケイ素）上に原子層堆積法で絶縁膜（SiO2）を形成し、さらに透明電極（酸化インジウム系）、層間絶縁膜（SiO2）および電極（アルミニウム）を順に積層した。
結果と考察 / Results and Discussion
作製した積層構造の断面透過電子顕微鏡（TEM）観察結果を図1に示す。作製した各層の膜厚を測長した結果、狙い通りの膜厚になっていることを確認した。一方、透明電極の一部で所望の形状に加工できていないことが判明したため、成膜手法および加工プロセスの見直しを実施する。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 断面TEM観察結果
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
・共同研究者：沼田敏典 教授（豊田工業大学 大学院工学研究科 電子情報分野 機能半導体デバイス研究室）
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件