利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.05.20】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24TT0014

利用課題名 / Title

高秩序ナノ構造体の創製と評価

利用した実施機関 / Support Institute

豊田工業大学 / Toyota Tech.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

ナノ構造体,PVD,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,スパッタリング/ Sputtering


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

徳  悠葵

所属名 / Affiliation

名古屋大学大学院工学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

橋本 陽輝,林 聖也,辻村 駿介,瀬戸 貴文

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TT-001:スパッタ(金属、絶縁体)蒸着装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

本研究では,機能・秩序・品質を高度化したナノスケールの構造体を創製する.また,創製した材料の機能・秩序・品質を電子顕微鏡を駆使することにより,材料の微視組織の観察,結晶構造の解析を行い,創製材料の機能を評価する.

実験 / Experimental

金属(AlやCuなど),金属酸化物(Fe2O3やCuOなど)からなるナノ構造体について,その原料となる薄膜を蒸着装置を用いて作製した.具体的には,スパッタリングや電子ビーム蒸着法を駆使することにより,厚さ100 nm程度の薄膜を成膜し,その後加熱処理を実施することによりナノ構造体作製を試みた.

結果と考察 / Results and Discussion

物理気相蒸着法により金属と酸化物を混合した薄膜を作製し,その後300℃の加熱処理を実施することにより,金属ナノ構造体の作製に成功した.得られたナノ構造体はAlで構成され,直径100 nm程度,長さ100 µmを超える高アスペクト比を有していた.

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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