【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.28】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1241
利用課題名 / Title
角度選択メタサーフェスの作製
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
光デバイス/ Optical Device,電子線リソグラフィ/ EB lithography,リソグラフィ/ Lithography,フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
信川 輝吉
所属名 / Affiliation
日本放送協会放送技術研究所新機能デバイス研究部
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
藤原誠
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-503：超高速大面積電子線描画装置
UT-600：汎用ICPエッチング装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
超高速大面積電子線描画装置(F7000S-VD02)および汎用ICPエッチング装置(CE-300I)を利用し、周期380 nm、高さ100 nmの窒化シリコンのラインアンドスペースの構造を試作した。
実験 / Experimental
窒化シリコンを製膜した合成石英基板上に電子線レジストZEP520A、エスペイサーを順にスピンコートした。角度選択性を有するメタサーフェスを作製するため、超高速大面積電子線描画装置(F7000S-VD02)により周期380 nmのラインアンドスペースのパターンを描画し、現像した。現像後、電子線レジストをマスクとして、汎用ICPエッチング装置(CE-300I)により、CHF3で窒化シリコンのエッチングを行った。エッチング後のサンプルを断面SEMで評価を行い、目的の周期構造が形成されているかを確認した。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1に試作したサンプルの断面SEM像を示す。周期380 nm、高さ100 nmの目的のラインアンドスペースを形成できていることを確認した。今後は、電子線レジストのマスクを除去し、光学的な角度選択性を評価する。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 エッチングした窒化シリコンの断面SEM像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
本課題に取り組むにあたり、F7000S-VD02の操作方法をご指導くださった藤原誠様に深く感謝いたします。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 信川輝吉 他、日本光学会年次学術講演会Optics & Photonics Japan 2024、30pMS3、2024年11月30日
- 信川輝吉 他、レーザー学会学術講演会第45回年次大会、H01-21p-VIII-02、2025年1月21日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件