【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.14】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1198
利用課題名 / Title
Topological材料を利用したメモリ開発
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
エッチング,強磁性トンネル接合,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,スパッタリング/ Sputtering,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique,エレクトロデバイス/ Electronic device,量子効果デバイス/ Quantum effect device,トポロジカル量子物質/ Topological quantum matter
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
大森 広之
所属名 / Affiliation
TopoLogic株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-505：レーザー直接描画装置 DWL66+2018
UT-603：汎用高品位ICPエッチング装置
UT-711：LL式高密度汎用スパッタリング装置 (2018)
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
Topological材料を用いた強磁性トンネル接合（MTJ）素子の加工を行うため、露光、エッチング、電極付けを主に行った。
実験 / Experimental
スパッタ成膜されたTopological材料を含むMTJ膜をDWL66+を用いて露光を行い、NE550でエッチング、Al2O3で絶縁膜形成後、再度露光後、CFS-4EP-LLで電極成膜を行って、測定用の素子を形成した。
結果と考察 / Results and Discussion
MTJの形成のためのエッチング時間を最適化するために、エッチング時間と膜のシート抵抗を測定した。MTJの層構成は基板側から下地層/Topological材料層/トンネルバリア層/強磁性層/保護層の構成で、Arエッチングのレシピ「AUTEST5」のレシピを用いて、累積エッチング時間とシート抵抗の関係を見た結果をFig.1に示す。累積エッチング時間が増えるとシート抵抗が減少し、あるところで一定になった後、さらにエッチングを進めると、再びシート抵抗が増加する。シート抵抗が変化しない領域はバリア層がエッチングされている領域で、その前は保護層と強磁性層、その後はTopological材料層がエッチングされている領域となる。バリア層の途中までエッチングしたいので、エッチング時間は200秒程度が良いと確認出来た。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 累積エッチング時間とシート抵抗の関係
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件