利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.04.30】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24UT1166

利用課題名 / Title

SnO2ガスセンサの作製

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

触針段差計,光学顕微鏡/ Optical microscope,センサ/ Sensor,スパッタリング/ Sputtering,膜加工・エッチング/ Film processing/etching


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

中山 雄樹

所属名 / Affiliation

東京大学新領域創成科学研究科人間環境学専攻

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

割澤 伸一(東京大学大学院新領域創成科学研究科),米谷 玲皇(東京大学大学院新領域創成科学研究科)

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術補助/Technical Assistance


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-704:高密度汎用スパッタリング装置
UT-600:汎用ICPエッチング装置
UT-850:形状・膜厚・電気特性評価装置群


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

SnO2からなる感ガス部を有するガスセンサを作製した.この作製では主に高密度汎用スパッタリング装置(CFS-4ES),汎用ICPエッチング装置(CE-300I),形状・膜厚・電気特性評価装置群(DektakXT)を使用した.

実験 / Experimental

汎用ICPエッチング装置(CE-300I)を用いて,SiO2/Si基板上のPt薄膜を電子ビームリソグラフィーにより形成されたレジストパターンをマスクとしてエッチングし、Pt電極を作製した.その後,高密度汎用スパッタリング装置(CFS-4ES)を用いてSnO2膜を製膜し,電子ビームリソグラフィーにより形成したレジストパターンをマスクとして,汎用ICPエッチング装置(CE-300I)を用いて,感ガス部となるSnO2及びその下部SiO2層をエッチングし,ガスセンサ構造を作製した.なお,この一連のプロセスにおいて,エッチング量は,形状・膜厚・電気特性評価装置群(DektakXT)を用いて評価し,ガスセンサデバイスの作製を行った.

結果と考察 / Results and Discussion

ガスセンサデバイスの作製結果を,Fig. 1に示す.Pt電極上にマルチリボン形のSnO2からなる感ガス部が配置された構造となる.このように先述した加工プロセスにより,マルチリボン形の感ガス部を有するガスセンサの作製を達成した.多様なガス種の計測への応用が期待される.

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig. 1 SnO2-based gas sensor


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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