【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.30】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1166
利用課題名 / Title
SnO2ガスセンサの作製
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
触針段差計,光学顕微鏡/ Optical microscope,センサ/ Sensor,スパッタリング/ Sputtering,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
中山 雄樹
所属名 / Affiliation
東京大学新領域創成科学研究科人間環境学専攻
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
割澤 伸一（東京大学大学院新領域創成科学研究科）,米谷 玲皇（東京大学大学院新領域創成科学研究科）
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-704：高密度汎用スパッタリング装置
UT-600：汎用ICPエッチング装置
UT-850：形状・膜厚・電気特性評価装置群
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
SnO2からなる感ガス部を有するガスセンサを作製した．この作製では主に高密度汎用スパッタリング装置（CFS-4ES），汎用ICPエッチング装置（CE-300I），形状・膜厚・電気特性評価装置群（DektakXT）を使用した．
実験 / Experimental
汎用ICPエッチング装置（CE-300I）を用いて，SiO2/Si基板上のPt薄膜を電子ビームリソグラフィーにより形成されたレジストパターンをマスクとしてエッチングし、Pt電極を作製した．その後，高密度汎用スパッタリング装置（CFS-4ES）を用いてSnO2膜を製膜し，電子ビームリソグラフィーにより形成したレジストパターンをマスクとして，汎用ICPエッチング装置（CE-300I）を用いて，感ガス部となるSnO2及びその下部SiO2層をエッチングし，ガスセンサ構造を作製した．なお，この一連のプロセスにおいて，エッチング量は，形状・膜厚・電気特性評価装置群（DektakXT）を用いて評価し，ガスセンサデバイスの作製を行った．
結果と考察 / Results and Discussion
ガスセンサデバイスの作製結果を，Fig. 1に示す．Pt電極上にマルチリボン形のSnO2からなる感ガス部が配置された構造となる．このように先述した加工プロセスにより，マルチリボン形の感ガス部を有するガスセンサの作製を達成した．多様なガス種の計測への応用が期待される．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 SnO2-based gas sensor
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件