【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.14】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1160
利用課題名 / Title
レーザー励起光電子顕微鏡を使ったイメージング技術の高度化に関する研究
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
光電子顕微鏡、レーザー励起光電子顕微鏡,ダイシング/ Dicing,センサ/ Sensor,リソグラフィ/ Lithography,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique,スパッタリング/ Sputtering
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
谷内 敏之
所属名 / Affiliation
東京大学連携研究機構マテリアルイノベーション研究センター
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
谷内敏之,藤原弘和,大川万里生
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
落合幸徳
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術相談/Technical Consultation（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究ではレーザー励起光電子顕微鏡から得られる情報を正確に理解するための標準試料の作製を目的とする。
実験 / Experimental
本課題は本年度、技術相談のみを行い、実際の機器利用は行わなかった。
結果と考察 / Results and Discussion
レーザー励起光電子顕微鏡は、物質の構造だけでなく物質が持つ多様な性質の可視化が可能なイメージング手法である。この手法を高度化するには得られる情報を理解するための標準試料の作製が必要となる。本年度はレーザー励起光電子顕微鏡のための標準試料の設計、および作製プロセスの検討のため技術相談を利用した。特にレーザー励起光電子顕微鏡では走査型電子顕微鏡(SEM)よりも検出深さが大きいことが最近知られるようになり、検出深さを評価するための標準試料が必要である。検出深さ評価のための標準試料は、基板上にパターン描画した材料とその上にそれらを覆う形で堆積した異なる材料の連続膜で構成される。この時、パターン描画された材料の厚みによって生じるうる連続膜表面の凹凸を極力抑える必要があるため、下部のパターン描画された材料の厚さを出来る限り薄くする必要があった。支援機関である東大ARIMにこの標準試料に適したプロセスを相談したところ、パターン描画には薄膜堆積の代わりに基板へのイオン注入による描画を行うことで、厚みを抑えたパターン描画が可能であるとの助言を受けた。またイオン注入は広島大学ARIMで実施可能であるという情報も提供された。以上の技術相談の結果、本研究に適した標準試料は広島大学ARIMにて製作可能と判断し、広島大学ARIMでの利用を進めることになった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件