【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.20】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1150
利用課題名 / Title
培養基板の表面構造が細胞に及ぼす作用の解析
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
浸潤、PDMS,光学顕微鏡/ Optical microscope,細胞・組織再生誘導材料/ Materials for inducing cell and tissue regeneration,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,バイオアダプティブ材料/ Bioadaptive materials,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
三好 洋美
所属名 / Affiliation
東京都立大学システムデザイン学部機械システム工学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
水島 彩子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-505：レーザー直接描画装置 DWL66+2018
UT-850：形状・膜厚・電気特性評価装置群
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
細胞には生体内の微細間隙を水がしみわたるように移動する特性を有している，この性質は「浸潤」と呼ばれ，がん細胞が原発巣をはなれて遠隔に移動する転移をはじめとした病理的なプロセスに関与する．本研究では，表面に溝構造が微細構造化基板を生体内の間隙モデルとし，細胞の浸潤挙動に及ぼす溝構造の形状やサイズの影響を特定した．
実験 / Experimental
シリコン製のモールドに付与された微細構造をポリジメチルシロキサン（PDMS）に転写して，微細間隙（高さ：10 µm，間隙幅：5 ～ 11 µm，間隙配置間隔：200 µm、図１) が付与された培養基板を作製するための，モールド加工に関わる条件出しを行った．レジストパターンの描画には，DWL66+2018を用いた．条件検討は技術支援員の水島様の支援を得て行った．
結果と考察 / Results and Discussion
レジストパターンの描画まで完了した．2025年度以降，高速シリコン深堀エッチング，続いてPDMSへの転写により基材を試作し，レジストパターンの描画，深堀エッチング，転写の各プロセスの条件を精査する計画である．エッチングの条件検討には，技術支援員の水島様の支援を得ることを計画している．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１ シリコンモールド設計図
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件