【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.20】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1074
利用課題名 / Title
ナノ構造の造形技術の研究
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ナノ構造,電子線リソグラフィ/ EB lithography,電子顕微鏡/ Electronic microscope,リソグラフィ/ Lithography,フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
宇惠野 章
所属名 / Affiliation
AGC株式会社先端基盤研究所機能化プロセス部
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
蛯原 悠介,西岡 昭治
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
藤原 誠
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
構造高さ100-500nm程度、平面サイズ：100～300nm強のパターンを組み合わせたデバイスを作製したい。
このようなデバイスは微小構造体を敷き詰めた設計のため、通常の描画装置では長い加工時間がかかってしまうが、
武田先端知クリーンルームのF7000S-VD02を用いてCP描画をしDose条件を適正化する事で、短時間で所望のパターンを得ることができた。
実験 / Experimental
以下の手順でサンプルを作製し観察を行った。１．加工基材の石英基板と、GDS形式の描画データを準備、２．レジストを塗布 CAN038、 ３．描画 F7000S-VD02使用、４．現像、５．SEM観察。
結果と考察 / Results and Discussion
F7000S-VD02を用いてデバイスを作製することができた。Fig.1に、作製したナノ構造の走査電子顕微鏡写真を示す。径の違いや一部構造体の倒れが認めらた為、 要素の設計サイズと実サイズとの相関をDoes条件を3水準調整しながら調査し検量線を作製した。その結果をFig.2に示す。検量線が作製だ着たことが確認できた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 作製したナノ構造の走査電子顕微鏡写真
Fig.2 設計サイズと実サイズとの相関をDoes条件を3水準調整しながら調査して得られた検量線
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件