【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.14】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1051
利用課題名 / Title
先端デバイスのSEM観察
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
量子効果/ Quantum effect,電子線リソグラフィ/ EB lithography,量子コンピューター/ Quantum computer,電子顕微鏡/ Electronic microscope,スパッタリング/ Sputtering,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
古賀 拓哉
所属名 / Affiliation
ティーイーアイソリューションズ株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
三原 一祐
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
産総研NPFと東北大学コインランドリを使用して先端デバイスの試作を行っている。デバイスの観察箇所が数十nmと小さいので高解像度のSEM観察が必要なため、東京大学のRegulus 8230を使用して観察を行った。
実験 / Experimental
先端デバイスの試作を産総研NPFと東北大学コインランドリを使用して作製している。産総研NPFにて、スパッタ成膜、EB描画露光、メタルエッチング、酸化膜成膜、酸化膜エッチを行なった試作ウェハを東北大学コインランドリにて、Vapor HFを行った。1層目と2層目のパターンの間にある酸化膜が除去出来ているか、東京大学のRegulus 8230を使用して観察を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
まず初めに、Vapor HFを行う前にRegulus 8230にてSEM観察を行い、1層目の配線と2層目の配線間に酸化膜があることを確認し(Fig.1)、東北大学コインランドリにてVapor HFの時間分流を行い、時間に依って酸化膜の残渣が変わるか確認を行なった。Regulus 8230でSEM観察を行った結果(Fig.2)、5min, 15min ともに同じように酸化膜はエッチング出来ており、デバイスは完成していた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1Before Vapor HF treatment
Fig.2 After Vapor HF treatment
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
産業技術総合研究所NPF(24AT0074)のスタッフの皆様、東北大学コインランドリ(24TU0001)のスタッフの皆様、東京大学武田先端知ビルのスタッフの皆様の御協力があってこそ試作が行えました。ありがとうございました。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件