【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.01】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24IT0041
利用課題名 / Title
シリコンフォトニクス光IC量産に向けたウエハレベルテスト技術の開発
利用した実施機関 / Support Institute
東京科学大学 / Science Tokyo
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
シリコン基材料・デバイス/ Silicon-based materials and devices,光学材料・素子/ Optical materials
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
熊谷 誠司
所属名 / Affiliation
住友電気工業株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
小尾 浩士
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
西山 伸彦,堀川 剛
利用形態 / Support Type
（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
IT-036：FormFactor 300mm ウェハプローバ
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
シリコンフォトニクス光ICの量産には、光ICのウエハレベルテスト(WLT)技術の開発が必要である。特に導波路端面を用いた光導波路と光プローブとの高効率結合、入出力光の偏波制御に加えて、量産に耐えうる測定精度、再現性、安定性等が課題として想定される。
今回テスト用8インチウエハについて、シリコンフォトニクスWLTシステム（FormFactor
300mmウエハプローバ「IT-036」）を用いて実際にテスト用8インチウエハ上に形成されたデバイスのプロービング評価テストを行い、課題抽出と解決策の検討を行うことで技術の確立を目指す。
実験 / Experimental
１）エッジカップリング用光プローブの特性の確認。
２）テスト用8インチウエハでエッジカップリングによる光結合を手動制御で実施。
３）繰り返し測定安定性の確認を自動測定で実施。
４）テスト用8インチウエハでエッジカップリングによるWLTを自動で実施。
結果と考察 / Results and Discussion
・エッジカップリング用光プローブの良好な特性を確認した（図１）。
・エッジカップリングでの装置制御の課題を抽出した。
・繰り返し測定安定は、3σ=０.1dBと良好な結果を確認した（図２）。
・偏波制御された評価系で直線導波路の光損失とリング共振器のFSRについて
WLTを実施し妥当なデータが得られている事を確認した（図３）。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１ 直線導波路特性
図２ 直線導波路の繰り返し測定結果
図３ リング共振器特性
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
本研究を進めるにあたり、東京科学大学 西山 伸彦教授と堀川 剛特任教授に多大なるご指導・ご支援を賜りましたこと、
心より感謝申し上げます。
お二人の専門的な知見と助言があったからこそ、本研究を無事に進めることができました。改めて、感謝の意を表します。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件