【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.08】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24IT0039

利用課題名 / Title

FFI光プローバを用いたシリコンフォトニクスデバイス(Ge PD、パッシブ光素子、アクティブ光素子)面内均一性評価

利用した実施機関 / Support Institute

東京科学大学 / Science Tokyo

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

フォトニクス/ Photonics

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

前田 雄也

所属名 / Affiliation

ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

堀川剛 教授

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

IT-036：FormFactor 300mm ウェハプローバ

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

光集積素子評価用オートプローバーを用い、試作した光デバイス(MZI光スイッチおよびGe PD)の評価を行い、ウェーハレベルでの特性を得ることを目的とする。

実験 / Experimental

光集積素子評価用オートプローバーを用いて、試作した光デバイス(MZI光スイッチおよびGe PD)の特性評価を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

オートプローバを用いた高精度かつ再現性の高い評価により、ウェーハでのGePDの水準ぶり含めて評価を行いばらつきを取得できた。ばらつき値の改善にむけてプロセスへのフィードバックを進めるとともにチップレベル評価との対応も進めている。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件