【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.13】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24IT0012

利用課題名 / Title

フォトニック・リザバーの作製

利用した実施機関 / Support Institute

東京科学大学 / Science Tokyo

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

化合物半導体,電子線リソグラフィ/ EB lithography,CVD,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,膜加工・エッチング/ Film processing/etching

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

中川 茂

所属名 / Affiliation

東京科学大学 総合研究院

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

IT-003：マスクレス露光装置
IT-038：電子ビーム露光装置
IT-008：3連Eガン蒸着装置
IT-012：リアクテブイオンエッチング装置
IT-015：SiO2プラズマCVD 装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

リザバーコンピューティングをフォトニクスで実現するために、フォトニック・リザバーを作製

実験 / Experimental

微細構造を形成するためのエッチングマスクを形成するため、PECVD装置(IT-015)でSiO2を成膜、電子ビーム露光装置(IT-038)やマスクレス露光装置(IT-003)で形成するフォトレジストマスクを用いてRIE(IT-012)でエッチング
電流注入を行うための電極を、マスクレス露光装置(IT-003)で形成するフォトレジストマスクを用い、電子ビーム蒸着装置(IT-008)で蒸着した金属をリフトオフして形成

結果と考察 / Results and Discussion

フォトニック・リザバーで電流による信号の入出力を行うための、多数の微細電極の2次元アレイを形成し、電流入力によるフォトンの発生、フォトン検出による電流出力を実現
フォトニック・リザバーで2次元のフォトニック共振器を実現するために、空気と半導体の界面による反射を利用する反射機構を作製し、高い反射率を有する反射機構を実現

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

フォトニック・リザバー

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件