【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.03】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24IT0007
利用課題名 / Title
半導体デバイスの作製及び評価
利用した実施機関 / Support Institute
東京科学大学 / Science Tokyo
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
化合物半導体,電子線リソグラフィ/ EB lithography,電子顕微鏡/ Electronic microscope,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
外賀 寛崇
所属名 / Affiliation
旭化成エレクトロニクス(株)
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
鈴木 左文
利用形態 / Support Type
（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
IT-006：走査型電子顕微鏡
IT-008：3連Eガン蒸着装置
IT-009：高真空Eガン蒸着装置
IT-037：クリーンルーム付帯設備一式
IT-038：電子ビーム露光装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ARIM事業の実施機関である東京科学大学の設備を利用して、半導体デバイスの作製及び評価を行った。
実験 / Experimental
電子ビーム露光装置を用いて露光、現像を行い、パターンを形成した。そのパターン上に電極材料をEガン蒸着機を用いて積層した。その後、レジストや不要な部分を除去することで、半導体デバイスを作製した。作製した半導体デバイスの状態は、光学顕微鏡や走査電子顕微鏡を用いて観察した。また、電極材料等の膜厚は触針式段差計で段差を計測することで見積もった。デバイスの電極作製において、低抵抗のオーミックコンタクトを形成する際は高真空の蒸着装置（IT-009）を用い、それ以外ではオペレーションが容易な蒸着装置（IT-008）を利用した。
結果と考察 / Results and Discussion
図1に電極材料を蒸着、リフトオフした後の半導体デバイスの光学顕微鏡写真を示す。電極の面積や配置などは設計したパターン通りになっており、所望の半導体デバイスができていることを確認した。電極材料等の膜厚に関しても、触針式段差計で段差を計測した結果、設計通りであった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 作製した半導体デバイスの光学顕微鏡写真
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
技術相談、技術指導など多大なサポートを賜りました東京科学大学未来産業技術研究所の鈴木左文教授、佐藤太一様に感謝申し上げます。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件