【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.13】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24IT0004
利用課題名 / Title
磁性コア付きインダクタの試作
利用した実施機関 / Support Institute
東京科学大学 / Science Tokyo
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
パワーエレクトロニクス,軟磁性材料,薄膜,高周波デバイス/ High frequency device,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique,エレクトロデバイス/ Electronic device,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高村 陽太
所属名 / Affiliation
東京科学大学工学院電気電子系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
山中希未斗,石井孝太郎
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
パワーエレクトロニクス応用に向けた軟磁性薄膜をデバイス上で評価を行うために，デバイ
スを作製することが目的である．
目的を達成するためマスクレス露光機を使用してフォトリソグラフィを行った．
実験 / Experimental
基板上にポジ型フォトレジストS1818を用いたフォトリソグラフィとリフトオフを行い，磁性膜のパターンを作製した．
また導電シード層状にポジ型フォトレジストP-BK5000を用いてフォトリソグラフィを行い，電解めっき膜のパターンを作製した．
結果と考察 / Results and Discussion
磁性膜の成形では，リフトオフのためにアセトンに液浸した際に，ホットプレート
を用いて60℃で１時間で加熱し，残渣の少ないリフトオフに成功した．
幅20um程度の微細なパターンの箇所はアセトンに液浸した状態で超音波洗浄を数分行うことでリフトオフに成功した．
電解めっき膜のパターン形成では，プリベーク時間の条件出しを行い厚み60um程度のレジストのパターニングに成功した．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
山中希未斗, 仁田帆南, 宮﨑達也, 石戸亮祐, 藤﨑敬介, 中川茂樹, 髙村陽太“タイル型CoFeB-SiO2薄膜磁心を用いた高周波対応スパイラルインダクタ” 令和6年電気学会全国大会（徳島）, 令和6年3月16日
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- Y.Takamura, H.Nitta, T. Miyazaki, K. Yamanaka, R. Ishido, A. Namba, K. Fujisaki, and S. Nakagawa. "Comprehensive Demonstration of New Magnetic Designs Utilizing Magnetic Anisotropy Of The Cores For Integrated Magnetics", Applied Power Electronics Conference and Exposition 2025(APEC 2025)(Atlanta, America), 20 March 2025
- 山中希未斗, 仁田帆南, 宮﨑達也, 佐藤佑樹, 石戸亮祐, 難波央, 石井孝太郎, 藤﨑敬介, 中川茂樹, 髙村陽太, “タイル型CoFeB-SiO2薄膜磁心を用いたスパイラルインダクタの自己共振周波数の高周波化の検討”, 2024年10月25日マグネティックス研究会（福岡県）, 令和6年10月24日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件