利用報告書 / User's Reports

  • 印刷する

【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.04.21】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24WS0372

利用課題名 / Title

集積インダクタの作製

利用した実施機関 / Support Institute

早稲田大学 / Waseda Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions

キーワード / Keywords

エレクトロデバイス/ Electronic device,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

高村 陽太

所属名 / Affiliation

東京科学大学 工学院 電気電子系

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

山中希未斗,石井孝太郎

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

WS-003:電子ビーム蒸着装置
WS-005:精密めっき装置群+ドラフト群


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

高周波用インダクタを半導体プロセスで実現するにあたり,インダクタやトランスの銅コイル部分を電解めっき(WS-005)で作製する.

実験 / Experimental

基板にEB蒸着装置(WS-003)でCrとCuを成膜した.その後リソグラフィを実施しコイルパターンを形成した.アッシングなどでレジスト残渣を完全に取り除いた後,銅メッキをした.

結果と考察 / Results and Discussion

顕微鏡観察から非常にきれいに銅めっきが施されたことを確認した.同一ウエハ上にインダクタンスのインピーダンス計測の結果,ウエハ内のインダクタンスのバラツキが極めて少ないデバイスを作製することができたと結論づけた.

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
  1. Y. Takamura, H. Nitta, T. Miyazaki, K. Yamanaka, R. Ishido, A. Namba, K. Fujisaki, S. Nakagawa, "Comprehensive Demonstration of New Magnetic Designs Utilizing Magnetic Anisotropy of the Cores for Integrated Magnetics," APEC 2025, 2025/3.
  2. 山中 希未斗, 仁田 帆南, 宮﨑 達也, 佐藤 佑樹, 石戸亮祐, 難波 央, 石井 孝太郎, 藤﨑 敬介, 中川 茂樹, 髙村陽太," タイル型薄膜磁心を用いたスパイラルインダクタの自己共振点の高周波化の検討 ," MAG-24-075, 13-17, 2024/10.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

印刷する
PAGE TOP
スマートフォン用ページで見る