利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.04.18】【最終更新日:2025.04.18】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23WS0191

利用課題名 / Title

レーザー加工後のガラス材料の観察

利用した実施機関 / Support Institute

早稲田大学 / Waseda Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

レーザー加⼯, ガラス材料,電子顕微鏡/ Electronic microscope,集束イオンビーム/ Focused ion beam,ナノ多孔体/ Nanoporuous material


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

寺澤 英知

所属名 / Affiliation

早稲田大学 理工学術院総合研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

坂口 千佳

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

WS-010:集束イオン/電子ビーム加工観察装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

ガラス材料は透過性、絶縁性、化学的安定性、⾼硬度性などの優れた特徴を持っており、各種光学部品、半導体基板のインターポーザー、マイクロデバイス(MEMS、流体チャネルなど)、データストレージなどに応⽤されている。⼀⽅で、脆性や⾼硬度性などによって微細加⼯が困難であり、難加⼯材料としても知られている。レーザー加⼯技術(超短パルスレーザー、 UVレーザーなど)は、ガラス材料に対して⾼品質・⾼精細な微細加⼯(マイクロ〜ナノ)を⾏えるものとして期待されている。マイクロサイズの加⼯であれば光を⽤いた顕微観察技術(光学顕微鏡、レーザー共焦点顕微鏡など)で評価できるが、ナノサイズの加⼯やナノサイズの加⼯影響(クラックなど)は光以外の観察技術が求められる。そこで、本研究では、FIB-SEMを持ちいて、その加⼯領域の断⾯をFIBで切り出してSEMで観察することで、レーザー加⼯後のガラス材料の状態を観察する。

実験 / Experimental

レーザー加⼯後のガラス材料の断⾯をFIBで切り出し、その断⾯をSEMで観察する。

結果と考察 / Results and Discussion

FIB-SEMを用いて、その加⼯領域の断⾯をFIBで切り出してSEMで観察することで、レーザー加⼯後のガラス材料の状態を観察した。ガラス材料には⽯英ガラスを⽤いた。光学顕微鏡等では観察できなかったナノサイズのクラックのようなものなど が確認された。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

  • 【更新日】0年0月0日
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