【公開日：2025.06.09】【最終更新日：2025.06.09】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22GA0105
利用課題名 / Title
イオンミリング加工した磁性材料の特性評価
利用した実施機関 / Support Institute
香川大学 / Kagawa Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
膜加工・エッチング/Film processing and Etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
山田 章悟
所属名 / Affiliation
TDK株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
GA-004：デュアルイオンビ－ムスパッタ装置
GA-005：触針式表面形状測定器
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
磁性材料はミリング加工によって特性が変化することが知られている。微細加工した強磁性積層膜のデバイス応用を検討するため、強磁性積層膜の磁気特性に対するイオンミリング加工の影響を評価した。
実験 / Experimental
デュアルイオンビームスパッタ装置（ハシノテック社製、10W-IBS）を用いて、垂直磁気異方性を有する強磁性積層膜（サンプルA）に対してイオンミリング加工を実施し薄膜化した。その際、触針式表面形状測定器（ULVAC社製、 Dektak8）を用いてサンプルAのイオンミリング加工前後の膜厚を測定した。比較対象として、イオンミリング加工後のサンプルAと同様の組成・膜厚を有し、イオンミリング加工を経ていない膜（サンプルB）を用意した。その後、振動試料型磁力計（自社設備）を用いてサンプルA及びサンプルBの磁化曲線を測定し、イオンミリング加工の有無による磁気特性の変化を評価した。
結果と考察 / Results and Discussion
触針式表面形状測定器による膜厚測定から得られたサンプルAのイオンミリング実施前後の膜厚はそれぞれ33.0 nm, 9.3 nmであり、約23.7 nmがイオンミリングによって除去されたことが分かった。Fig. 1に振動試料型磁力計による測定から得られたサンプルA及びサンプルBの磁化曲線を示す。両者の飽和磁化の大きさが概ね一致していることから、強磁性層として存在している膜厚は同程度に調整できていることが確認できた。一方で、サンプルAのゼロ磁場における残留磁化はサンプルBと比べて明確に減少しており、イオンミリング加工により垂直磁気異方性が劣化していることが示唆された。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 イオンミリング加工履歴の有無による磁化曲線の比較
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
下川房男先生 、支援員の皆様に感謝いたします。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件