【公開日：2025.07.07】【最終更新日：2025.07.04】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22NI0602
利用課題名 / Title
ミリングにより合成した化合物半導体の電子構造評価
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋工業大学 / Nagoya Tech.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion（副 / Sub）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies
キーワード / Keywords
熱電変換材料, クライオミリング,赤外・可視・紫外分光/Infrared and UV and visible light spectroscopy,赤外・可視・紫外分光/Infrared and UV and visible light spectroscopy,熱電材料/ Thermoelectric material
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
宮崎 秀俊
所属名 / Affiliation
名古屋工業大学大学院工学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators Excluding Supporters in the Hub and Spoke Institutes
濱中 泰
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Supporters in the Hub and Spoke Institutes
濱中 泰
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
新規熱電変換材料の合成のためにクライオミリングによるアモルファスシリコンの合成を行った。合成されたアモルファスシリコンのバンドギャップ評価のために名古屋工業大学UV-VIS V-570による可視紫外分光測定を行った。その結果、クライオミリングにより合成されたアモルファスシリコンは液体急冷法により合成されたアモルファスシリコンと同定のバンドギャップを有することを明らかにした。
実験 / Experimental
測定対象としたアモルファスシリコン粉末は遊星ボールミル型クライオミリング法により作製した。粉末試料のバンドギャップ評価のためにV570に積分球ユニットを取り付け、拡散反射による測定を行った。測定波長は190～2500 nmの範囲内で行った。
結果と考察 / Results and Discussion
クライオミリングで合成されたアモルファスシリコンのバンドギャップは1.6 eVであり、これまでに報告された液体急冷法で作製されたアモルファスシリコンのバンドギャップの1.7 eVと同程度であった。この結果から、クライオミリングという簡易的な合成によりアモルファスシリコンの大量生産が可能であることを確認した。しかしながら、得られたスペクトルにおけるバンドギャップエネルギー近傍の立ち上がりは急峻ではなく、粉末内に多くの欠陥構造の存在が示唆された。今後、合成方法の調整により、より純良なアモルファスシリコンの合成方法の確立を目指す。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件