【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.04.17】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22TU0141
利用課題名 / Title
7インチマスクへのレジストコート / Resist coat on 7 inch mask
利用した実施機関 / Support Institute
東北大学 / Tohoku Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
パワーエレクトロニクス, パワーエレクトロニクス,リソグラフィ/Lithography,パワーエレクトロニクス,MEMSデバイス
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
吉田 賢一
所属名 / Affiliation
新電元工業株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
渡部善幸 氏（山形県工業技術センター）
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
邉見政浩
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
パワーエレクトロニクスで使用するMEMSデバイスを試作するため、東北大学試作コインランドリーの設備を利用して、7インチマスクブランクスにフォトレジストをスピンコートした。
実験 / Experimental
7インチマスクブランクスをホットプレートにて100℃で10 min加熱して表面の水分除去を行い、室温で10 minクールダウン後、アクテス社のスピンナーを用いてHMDS（ヘキサメチルジシラザン）をスピンコートした。HMDSを100℃、10 min加熱、室温で10 minクールダウン後、フォトレジスト（AZP1350 4.2 cp）を2,000 rpmでスピンコートし、100℃、10 min加熱（プリベーク）した。
結果と考察 / Results and Discussion
7インチマスクブランクスにHMDS（ヘキサメチルジシラザン）、およびフォトレジスト（AZP1350 4.2 cp）のスピンコートを行った。前後の加熱工程では、大型基板のため熱容量が大きく、クールダウンに時間を要した。またフォトレジスト滴下量の基準がなく、目測で滴下、スピンコートしたが、基板サイズごとの滴下量の指標を持ち合わせておくべきであった。実験後、後日自社内でレーザー描画、現像、Crエッチングを行い、良好にパタン形成できた。作製したフォトマスクを用い、研究グループ内でΦ6インチウェハプロセスに使用し良好に試作できた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件