【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24KT2538
利用課題名 / Title
EB描画装置の実力把握のための借用
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ナノホール,電子線リソグラフィ/ EB lithography
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
次六 寛明
所属名 / Affiliation
セイコーエプソン株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
石沢俊介
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
平井博之,井上良幸
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
直径80~200nm程度、ピッチ150~250nm程度の三角格子配列ナノホールアレイをパターニングできる技術を調査しています。本依頼にて、大面積超高速電子線描画装置（KT-115）の実力把握と実験サンプル作製を目的に、装置を借用する。
実験 / Experimental
電子線描画装置（KT-115）を用いて、レジスト膜にナノホールアレイを形成し、蒸着膜をエッチングする。
技術代行依頼実績：2024年11月（3枚）
基板：φ2インチ、t=430μm、サファイア基板
1.蒸着膜形成
2.レジスト塗布：ZEP520A、t=180nm
3.エスペイサー塗布（技術代行）：300Z
・エスペイサーコート： 1500rpm、60sec（メインステップ）
・ベーク： 110℃、60sec
4.電子線描画（技術代行）：A15大面積超高速電子線描画装置、F7000S-KYT01（アドバンテスト）
・アジャスタ：型式KHE-610116（セイコーエプソン資産）
・GDSファイル：Quarterl （図1にウエハ面内でのQuarterlの配置図を示す）
・ユニット概要：TR300、TR150f、TR200g、TR250d （図2にQuarterl内でのユニット配置図、図3にユニット概要を示す）
・三角格子、□100μm ・ピッチ：150、200、250、300nm ・ホール直径：5水準 ・1列のみ
5.エスペイサー除去
6.現像
7.ドライエッチング
8.レジスト除去
表1にプロセス工程表を示す。
結果と考察 / Results and Discussion
レジスト除去後にサンプルのSEM観察を行った。これまでに行った実験と同様に、真円度と均一性の高いナノホールアレイが形成できていた。本装置によって、良好な形状のナノホールアレイを、比較的短時間で形成することができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 ウエハ面内でのQuarterlの配置図
図２ Quarterl内でのユニット配置図
図３ ユニット概要
図4 電子線描画条件表
表1 プロセス工程表
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件