【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24KT2398
利用課題名 / Title
石英ガラスのドライエッチング
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
異種材料接着・接合技術/ Dissimilar material adhesion/bonding technology,CVD,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
鎗田 直樹
所属名 / Affiliation
AGC株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
辻山大輔
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-209：磁気中性線放電ドライエッチング装置
KT-203：電子線蒸着装置
KT-205：プラズマCVD装置
KT-332：触針式段差計（CR）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
石英ガラス上に形成したCrパターンをハードマスクとして磁気中性線放電ドライエッチング装置にて石英ガラスのエッチングを行った。
実験 / Experimental
電子線蒸着装置（KT-203）を使用して石英ガラス上にCr膜を成膜し、社内のフォトリソグラフィ設備でCrのパターニングを行った。そのCrパターンをハードマスクとして磁気中性線放電ドライエッチング装置（KT-209）にて石英ガラスのエッチングを行った。エッチング条件は、表１記載の2つの条件を使用し、エッチング時間は10分間とした。触針式段差計（CR）（KT-332）でCrと石英ガラスのエッチング量をそれぞれ測定し、エッチング速度と選択比を算出した。
結果と考察 / Results and Discussion
表１記載の「条件１」での石英ガラスのエッチングレートは0.72μm/min.、Crに対する石英ガラスのエッチング選択比は39であった。一方、「条件２」での石英ガラスのエッチングレートは0.48μm/min.、Crに対する石英ガラスのエッチング選択比は20であった。石英ガラスに対しては、フッ素系のガスの割合が多い条件１の方が有利な加工条件と考えられる。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
表1 石英ガラスのエッチング条件
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件