【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24KT2485
利用課題名 / Title
微細構造を利用した光学素子の研究
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
微細加工,ナノ構造,光学素子,電子線リソグラフィ/ EB lithography,フォトニクス/ Photonics
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
穂苅 遼平
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
平井博之
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-115：大面積超高速電子ビーム描画装置
KT-116：近接効果補正システム
KT-111：ウエハスピン洗浄装置
KT-114：有機現像液型レジスト現像装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
偏光素子として機能するワイヤーグリッド構造を電子ビームリソグラフィベースの加工プロセスで作製し、その光学機能を評価する。
実験 / Experimental
Si基板上に20mm×72mmエリアのワイヤーグリッドパターン（140 nmピッチ）を形成するため、大面積超高速電子ビーム描画装置（KT-115）およびその周辺装置（KT-116）の技術代行により、CADパターンのコンバージョン、リソグラフィ、現像の条件を調整していただいた。有機現像液型レジスト現像装置（KT-114）を利用して電子ビーム描画用レジストにZEP520A（厚さ125nm）を用いて、Dose量は100 µC/cm2、現像はZED-N50を用いて行われた。
結果と考察 / Results and Discussion
Si基板上に140nmピッチのワイヤーグリッドレジストパターンを形成することができた。その後反応性イオンエッチング装置を用いてSiの異方性エッチングを行った。テーパー状に高さ（深さ400nm程度になるように加工する条件でエッチングを行い、レジストマスクが途中で消失することなくプロセスを進めることができた。加工したSiウエハをモールドとしてナノインプリントにより樹脂シートへのパターン転写を行い、その樹脂シート上にアルミニウムを成膜することで、偏光機能が発現することを確認できた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
本研究成果の一部は、JST研究成果展開事業 研究成果最適展開支援プログラム（A-STEP） 産学共同 JPMJTR24RBの支援を受けたものです。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件