【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.16】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24AE0024

利用課題名 / Title

ニッケル選択分離剤開発のための二価金属イオンの錯体構造解析

利用した実施機関 / Support Institute

日本原子力研究開発機構 / JAEA

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

レアメタル,XAFS,金属錯体

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

鈴木 智也

所属名 / Affiliation

国立研究開発法人産業技術総合研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

中窪圭佑,粕谷亮,成田弘一

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

小林徹 ,塩飽秀啓,谷田肇

利用形態 / Support Type

（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

AE-003：高輝度放射光XAFSシステム

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

本研究では、Ni(II)抽出剤開発に資するデータの取得のために、ピコリン酸のNi(II)及びCo(II)に関する錯形成挙動をX線吸収微細構造（XAFS）により検討した。

実験 / Experimental

0.1 MのNi(NO₃)₂·6H₂OまたはCo(NO₃)₂·6H₂Oを溶解したメタノール溶液にピコリン酸を金属イオン濃度に対し二等量を加え、得られた固体と上澄み液のXAFS測定を行った。固体サンプルは金属濃度が最大で5mass%になるように窒化ホウ素で金属錯体を希釈し、ペレット化することで測定試料とした。溶液サンプルについては光路長0.5 cmのプラ製セルに入れ、測定に用いた。比較用のサンプルとして、0.1 MのNi(NO₃)₂·6H₂OまたはCo(NO₃)₂·6H₂Oを溶解したメタノール溶液を測定した。測定はBL-22XUにて、Ni K edge（8.333 keV）及びCo K edge （7.709 keV）XAFSを透過法により測定した。

結果と考察 / Results and Discussion

0.1 MのNi(NO₃)₂·6H₂Oを溶解したメタノール溶液とNi(II)とピコリン酸含む固体及びメタノール溶液のNi K edge XANESスペクトルを測定した。メタノール溶液のXANESスペクトルにおいて、ピコリン酸の添加前後で、XANESスペクトルの変化はわずかであった。この結果は、溶液中のNi(II)錯体はピコリン酸共存下においてメタノールに溶媒和されていることを示唆している。一方、固体のサンプルについてはXANESスペクトルの形状に変化があった。このことから固体サンプルについては、Ni(II)に対し、ピコリン酸が配位していることが示唆される。Co(II)についても同様の傾向がみられた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

なし。

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件