利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.05.16】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24KT2455

利用課題名 / Title

積算型導波路の原理実証

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

導波路,グレーチング,電子線リソグラフィ/ EB lithography,電子顕微鏡/ Electronic microscope,フォトニクス/ Photonics,膜加工・エッチング/ Film processing/etching


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

山根 宏大

所属名 / Affiliation

株式会社タムロン

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

細谷成紀

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術補助/Technical Assistance


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-115:大面積超高速電子ビーム描画装置
KT-111:ウエハスピン洗浄装置
KT-114:有機現像液型レジスト現像装置
KT-209:磁気中性線放電ドライエッチング装置
KT-301:超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

半導体製造プロセスを用いて、昨今技術の発展が目覚ましいDiffractive Wave Guideの製造を試みた。製造についてはリソグラフィにe-beam描画を、エッチングに磁気中性線放電ドライエッチングを用いた。

実験 / Experimental

□40のガラスを切り出し、大面積超高速電子ビーム描画装置(KT-115)を用いて最小構成のテストパターンを描画し、顕微鏡で確認した。テストパターンは3つの領域に別れており、それぞれ違うパラメーターのグレーチング状の微細構造である。現像後磁気中性線放電ドライエッチング装置(KT-209)でレジストをマスクとしてガラスを直接エッチングし、アッシングにより残存レジストを除去した。エッチング後、社に戻って光学試験をした。設計通りであれば、第一のエリアに入射した細い光線が拡大されて第三の領域から射出され、広い領域にわたって同じ像が確認されるはずである。

結果と考察 / Results and Discussion

測定の結果、意図した導波の像が確認できた。また、超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡(KT-301)他電子顕微鏡等で観察したところ、所々でエッチングの剥がれに起因するパターン不良が見つかった。
本サンプルは動作こそ確認できるもののまだまだ効率が悪く、微弱な信号である。これは、エッチングのパラメーターの追い込みができてないことの他、先述のようにパターンがきれいに整形できていないこと、等が挙げられる。以降はこれらを改善しつつ、製造側ノウハウの影響を設計にフィードバックし効率向上を検討していく予定である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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