【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.02】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24KT2674
利用課題名 / Title
導波モード共鳴を用いた新規光学デバイスに関する研究2
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
石英ガラス基板,光導波路,サブ波長周期構造,電子線リソグラフィ/ EB lithography,フォトニクス/ Photonics,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
井上 純一
所属名 / Affiliation
京都工芸繊維大学 大学院工芸科学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
小澤桂介,山西裕也
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
江崎裕子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術相談/Technical Consultation
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-101：高速高精度電子ビーム描画装置
KT-121：マスクレス露光装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
導波モード共鳴(GMR)フィルタは、透明基板上の導波路にサブ波長周期グレーティングを集積して構成され、空間入射光と導波光の相互作用によって特異な反射・透過特性を示す[1]。本研究では多層構造作製のために、EB描画とLD描画の重ね描画を検討した。
実験 / Experimental
表面にSi-N膜が形成されたSiO2ガラス基板を用いた。以下に実験工程を示す。①基板表面にEB描画（KT-101）によりパターンニングを行う。②ドライエッチングによりSi-N層にパターンを転写する。③CVD法により基板にGe-SiO2を堆積する。④LB描画（KT-121）により新たなパターンニングを行う。⑤ドライエッチングによりGe-SiO2層にパターンを転写する。③CVD法により基板にSiO2を堆積する。工程①および④ではマーカーは用いずに、基板の角からの相対位置によってパターンのアライメントを行った。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1に作製した試料表面の光学顕微鏡写真を示す。工程⑤で形成された溝の底面に合焦している。設計ではEB描画とLB描画のパターンの外周線の位置は一致している。結果として20μm程度の誤差で作製可能だとわかった。これ以上のアライメント精度の向上のためにはアライメントマーカーの利用が必要であると考える。なおLB描画パターン内に見られる荒粒は、長時間のドライエッチング中の温度上昇による表面の変質が原因と考える。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 作製試料の表面写真
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件