【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.19】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24RO0033
利用課題名 / Title
MBEで作製した量子物質薄膜の厚み評価
利用した実施機関 / Support Institute
広島大学 / Hiroshima Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
段差計/ Step meter,スピントロニクスデバイス/ Spintronics device,先端半導体（超高集積回路）/ Advanced Semiconductor (Very Large Scale Integration)
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
藤澤 唯太
所属名 / Affiliation
広島大学放射光科学研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
水野 恭司
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術相談/Technical Consultation（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
結晶磁気異方性に代表されるように、磁性薄膜の物性は膜厚によって大きく左右される。そのため、磁性薄膜の研究において、膜厚を実験的に決定することは重要である。本課題では、MBEを用いて成膜したMnTe薄膜の膜厚を段差計を用いて調べた。
実験 / Experimental
複数の薄膜試料の厚みを計測した。
結果と考察 / Results and Discussion
おおよそ期待通りの膜厚を計測することができた。MnTe薄膜については成膜時間30分に対しておよそ50nmの膜厚を複数の試料で確認することができた。CrTe薄膜については2時間成膜に対して100 nm程度の厚みを確認することができた。電極として用いているTiについては2時間の成膜時間で200 nm近い膜厚を確認することができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件