利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.05.02】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24SH0026

利用課題名 / Title

無機コンポジット構造体の組成分析

利用した実施機関 / Support Institute

信州大学 / Shinshu Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

EPMA,電子顕微鏡/ Electronic microscope


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

近藤 敏彰

所属名 / Affiliation

愛知工科大学工学部 機械システム工学科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

小畑美智子,倉田智恵子

利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術代行/Technology Substitution(副 / Sub),技術相談/Technical Consultation


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

SH-010:リモート対応型電子線マイクロアナライザー


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

アノード酸化ポーラスアルミナのナノ細孔中に無機物質を充填することで,ポーラスアルミナへ様々な機能性の付与が可能となる。本課題では,ポーラスアルミナのナノ細孔中に充填した硫化モリブデンの空間分布の観察を目的とした。

実験 / Experimental

アルミニウムを酸瀬電解液中に浸漬し,アノード酸化することで,ポーラスアルミナを作製した。ポーラスアルミナのナノ細孔中に,電解析出法により,硫化モリブデンを充填した。硫化モリブデンの空間分布は電子プローブマイクロアナライザー(EPMA)を用いて観察した。

結果と考察 / Results and Discussion

EPMAによるサンプルの断面観察の結果,図1に示すように,アルミニウム表面20μmへの酸化アルミニウム層(ポーラスアルミナ層)の形成が観察された。またモリブデン元素と硫黄元素の観察結果は酸化アルミニウム層の部分でモリブデンと硫黄の両方が存在することを示すが、SEM像の形状ではなく、モリブデンと硫黄の分布に相関があり、特にポーラスアルミナの底部(アルミニウムとの境界)付近により多く存在することが分かった。これにより,ポーラスアルミナの細孔中に硫化モリブデンが充填されていることが明らかとなった。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1 EPMAによる断面マッピング


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

EPMA観察は、信州大学先鋭材料研究所の小畑美智子様にご実施いただきました。心より感謝申し上げます。


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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