【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.14】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24MS5025
利用課題名 / Title
赤外分光ビームラインUVSOR BL6BにおけるKRS5結晶窓への付着物評価
利用した実施機関 / Support Institute
自然科学研究機構 分子科学研究所 / IMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
試料準備
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
田中 清尚
所属名 / Affiliation
分子科学研究所 極端紫外光研究施設 光物性測定器開発研究部門（田中G）
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
石山 修,平野 佳穂
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
MS-202：低真空分析走査電子顕微鏡
MS-236：電子プローブマイクロアナライザ（EPMA）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
UVSORの赤外分光ビームラインBL6Bでは近年顕微測定用の低温冷却クライオスタットを導入・運用を開始したところである。このクライオスタットを利用したユーザーから低温冷却時に測定に使用している透過窓が曇り（？）測定ができなかったと報告があった。確かにこれまで見られなかった傷のようなものが窓に見られ、試料そのものあるいはユーザーが実験中に実施している電圧印可中に不純物が飛散したことで透過窓に付着した恐れがあった。そこでこの曇りの原因を明らかにするためにARIMのEDS（とEPMA）測定を実施して原因の特定を試みた。結果として窓材以外の不純物は観測されず、ユーザーがクライオスタットを冷却する前に十分真空引きをしなかったことで透過窓に氷が付着したことが原因と結論することができた。
実験 / Experimental
透過窓の付着物が疑われる領域とそれ以外の領域の何点かについて組成分析を実施していただいた。結果として透過窓以外の成分は観測されなかった。
結果と考察 / Results and Discussion
今回のEDS（とEPMA）測定により透過窓に不純物が付着した可能性を除外することができた。残る可能性は試料冷却中の真空が悪かった可能性であり、ユーザーに問い合わせたところ真空引きを開始してから30分も待たずに冷却を開始していたことが判明した。
今回の結果を受けて低温冷却前には最低でも3時間以上真空引きをすることとし、透過窓に残った傷についてはユーザーが利用中に傷つけてしまったものと考えられるため当該ユーザーには注意を喚起した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件