利用報告書 / User's Reports

  • 印刷する

【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.04.02】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24KT2511

利用課題名 / Title

二次元炭素材料の電気伝導特性解析

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

酸化グラフェン,触媒エッチング,微細加工


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

宇都宮 徹

所属名 / Affiliation

京都大学 大学院工学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

後藤雄太

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-306:3D測定レーザー顕微鏡


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

貴金属アシストシリコンエッチングがシリコンナノ構造体形成方法の一つとして近年注目されている.当研究室ではアシストエッチングに用いられる貴金属触媒の代替材料として酸化グラフェン (Graphene Oxide:GO) を用いたGOアシストエッチング技術の開発を行っている[1].本課題ではマイクロコンタクトプリンティング技術をGOアシストエッチングと組み合わせることでシリコンマイクロピラーの作製に取り組んだ.そして,京都大学ナノテクノロジーハブ拠点の3Dレーザー顕微鏡を用いた表面形状観察を行った.

実験 / Experimental

洗浄したp型シリコン基板上にマイクロコンタクトプリンティングによってGOを転写することでGOマイクロパターンを形成した.そして,試料をフッ酸および過酸化水素からなるエッチング液の蒸気に暴露することで気相エッチングを行った.エッチング後の試料の表面形状測定に京都大学ナノテクノロジーハブ拠点の3D測定レーザー顕微鏡(KT-306,OLS4000-SAT,オリンパス製)を用いた.

結果と考察 / Results and Discussion

3Dレーザー顕微鏡を用いて取得したGOアシスト気相エッチング後の表面形状像およびラインプロファイルを下図に示す.エッチング中の基板温度は約60 ℃,エッチング時間は24時間とした.直径約10マイクロメートルの凸部が規則的に並んだ表面形状が得られた.この凸部はGOマイクロパターンにおけるGOシート非被覆部によく対応しており,GO担持領域が選択的に深くエッチングされたことを示唆している.このことからシリコンマイクロピラーの形成に本エッチング手法が活用可能であることが示唆された.

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig. 1 A 3D laser microscopy topographic image and a cross-sectional profile along the line of a silicon substrate loaded with GO after vapor etching for 24 h at 60 ℃.


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

参考文献:[1] W. Kubota, et al., Langmuir, 37, 9920 (2021).


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
  1. 後藤雄太他,37th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2024)
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

印刷する
PAGE TOP
スマートフォン用ページで見る