【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.03.24】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24KT2500
利用課題名 / Title
ナノインプリント転写評価
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ナノインプリント
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
千坂 博樹
所属名 / Affiliation
東京応化工業株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
岸村眞治
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-108：レジスト塗布装置
KT-239：UVナノインプリント装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
EVG装置を用いたインプリント評価
実験 / Experimental
レジスト塗布装置（KT-108）を用いて4inchのSi基板にTOKナノインプリントサンプルを塗布し、80℃でPrebakeを行い、溶剤を乾燥させた。その後、EVG社のUVナノインプリント装置（KT-239）を用いてインプリントと露光を行い、パターンが出来ているかSEM観察を行った。
UVナノインプリント条件：転写ロールスピード: 4mm/s、転写圧: 500mbar、Exposure: 10 J/cm2
結果と考察 / Results and Discussion
粘度が低い原料を用いたサンプルはインプリントが可能であり、SEM観察を行った結果、パターンが形成されていたことを確認した。反対に、粘度が高い原料を用いたサンプルはインプリントが出来ていなかった。以上のことから、粘度が低い原料を用いることがインプリント性を向上させることが分かった。（表参照）
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
表 粘度に対するインプリント性の実験結果
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
TOK：東京応化工業
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件