【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.14】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24GA0131
利用課題名 / Title
生体サンプルの空間的なサンプリング術の開発
利用した実施機関 / Support Institute
香川大学 / Kagawa Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
バイオデバイス,成形/ Molding,リソグラフィ/ Lithography,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
井上 博文
所属名 / Affiliation
岡山大学病院 医療技術部
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ASYRAF DANISH BIN NGAZELI,崔 逸佳
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
寺尾 京平
利用形態 / Support Type
（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
GA-002：マスクレス露光装置
GA-003：スピンコータ－
GA-013：ショットキー電界放出形走査電子顕微鏡群
GA-014：白色干渉搭載レーザ顕微鏡
GA-016：光干渉式膜厚測定装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
組織試料の一部分を空間的にサンプリングするためのマイクロデバイス技術を開発する。
実験 / Experimental
マスクレス露光装置(大日本科研 MX-1204:GA-002)で作製したフォトマスクを用いて、SU-8 3005レジストパターンを形成し、PDMSモールディングの鋳型とした。
SU-8膜厚についてはスピンコート後のベークを行った後に光干渉式膜厚測定装置(ThetaMetrisis FR-Scanner-AIO-Mic-XY200:GA-016)で測定し、露光プロセスを実施した。
形成したSU-8構造および転写したPDMS構造はショットキー電界放出形走査電子顕微鏡(EDS付き)(日本電子 JSM-IT800SHL:GA-013)で観察するとともに、
白色干渉搭載レーザ顕微鏡(キーエンス VK-X3100:GA-014)を用いて3次元的な測定を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
最小幅5μmの矩形パターンを形成を試み、若干の角の丸みが見られたもののマスクレス露光装置で正常にフォトマスクを作製することができた。
SU-8膜厚については光干渉式膜厚測定装置で測定したデータと白色干渉搭載レーザ顕微鏡で測定したデータはほぼ一致しており、光干渉式膜厚測定装置によるプロセス途中での膜厚測定が機能することが確かめられ、プロセスが効率化された。SU-8構造およびPDMS構造ともに問題なく形成された。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件