利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.05.07】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24GA0127

利用課題名 / Title

細胞操作観察用マイクロ流体デバイス開発

利用した実施機関 / Support Institute

香川大学 / Kagawa Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials(副 / Sub)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed

キーワード / Keywords

成形/ Molding,μTAS,リソグラフィ/ Lithography,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,細胞培養デバイス/ Cell Culture Device,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,流路デバイス/ Fluidec Device


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

平野 勝也

所属名 / Affiliation

香川大学 医学部 医学科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

青野 航汰,山崎 綾

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

寺尾 京平

利用形態 / Support Type

(主 / Main)共同研究/Joint Research(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

GA-002:マスクレス露光装置
GA-013:ショットキー電界放出形走査電子顕微鏡群


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

単一細胞の刺激応答観察を目的としたマイクロ流体デバイスを開発する。

実験 / Experimental

マスクレス露光装置(大日本科研 MX-1204:GA-002)でフォトマスクを作製し、マスクアライナ(SUSS MicroTec MA6/BA6:登録外装置)を用いてSU-8のパターニングを行った。
SU-8の膜厚は光干渉式膜厚測定装置(ThetaMetrisis FR-Scanner-AIO-Mic-XY200:GA-016)を用いて露光前に測定した。SU-8パターンを鋳型として、PDMSに転写した。
PDMSデバイスをスライドガラスにボンディングすることでマイクロ流路構造を形成した。
PDMS構造については、ショットキー電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子 JSM-IT800SHL:GA-013)で形状評価を実施した。

結果と考察 / Results and Discussion

光干渉式膜厚測定装置を用いて露光前に測定した SU-8膜厚と露光現像後の膜厚測定結果がほぼ一致しており、露光前にSU-8膜厚をチェックできることを実証した。
PDMSマイクロ流路構造は正常に作製され、送液実験により機能することが確かめられた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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