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- 22AT0180
- 電極の作製
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0175
- カーボンナノチューブの表面状態の解析
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0174
- KNN薄膜上へのP-CVDによるSiO2薄膜形成
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0168
- NRAM用カーボンナノチューブの評価
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0167
- スパッタにより成膜したハフニウムナイトライド薄膜のXPS分析
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0165
- ミニマルファブにおけるデバイスと成膜の評価
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0163
- Nano/Micro機能付加による高性能伝熱面に関する研究
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0162
- TCO/p-Ge ショットキーフォトダイオードの作製
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0159
- Investigation of microstructure, composition and passivation performance of silicon nitride, silicon oxide, and titanium nitride thin films
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所
- 22AT0158
- SiN光導波路の作製
- 2023.7.28
- 産業技術総合研究所