日時
2026年2月25日（水）12:55-16:40
開催方式／場所
オンライン：Teamsウェビナー
現地参加：産業技術総合研究所つくば中央2-12棟第6会議室
主催
産業技術総合研究所ナノプロセシング施設（NPF）
共催
物質・材料研究機構微細加工ユニット
東京科学大学科学技術創成研究院未来産業技術研究所
北海道大学電子科学研究所
定員
オンライン：200名、現地参加：80 名
（先着順、参加登録をお願いします）
参加費
無料
参加申し込み
Webフォーム https://www.tia-kyoyo.jp/npf/seminar/2025-2/
申込締切：2月20日（金）17:00
※先着順、定員に達し次第締め切らせていただきます。
詳細
産業技術総合研究所、東京科学大学、物質・材料研究機構、北海道大学は、2021年度からスタートした文部科学省委託事業である「マテリアル先端リサーチインフラ（ARIM)」の一環として、『電子線・光リソグラフィ技術』と題して技術セミナーを2026年2月25日（水）にハイブリッド開催いたします。マスクレスリソグラフィ技術の解説に加え、フォトマスクを用いてナノメートルスケール描画を実現するリソグラフィ技術、各機関の共用施設のリソグラフィに関わる事例等を紹介いたします。産学官いずれのご所属の方々の奮ってのご参加をお待ちしております。
※詳細は、開催案内をご覧ください。
お問い合わせ
産業技術総合研究所 ナノプロセシング施設
【連絡先メールアドレス】 tia-npf-school2(at)aist.go.jp
※(at)を@に書き換えてください。
ホームページ
[URL] https://www.nims.go.jp/arim/event/event_20260225.html
最新情報は、イベントWebサイトでご確認ください。