設置機関：豊橋技術科学大学（実施体制整い次第提供予定）
- TH-101 無機ドラフトチャンバー(ダルトン)
- TH-102 無機洗浄バッチ層(クレセン)
- TH-103 有機ドラフトチャンバー(ダルトン)
- TH-151 マスク加工装置(KES-200NP2)
- TH-152 スピン乾燥機
- TH-153 超臨界洗浄・乾燥装置(SCRD4)
- TH-201 Alスパッタ装置(L-420S)
- TH-202 RF/DCメタルスパッタ装置(E-400S)
- TH-203 汎用メタルスパッタ装置(E-401S)
- TH-204 汎用メタルスパッタ装置(Noyes)
- TH-205 EB蒸着装置(SANVAC)
- TH-206 酸化膜スパッタ装置(E-401S)
- TH-207 誘電体膜スパッタ装置(EB-1100)
- TH-208 パリレン成膜装置
- TH-251 LPCVD装置
- TH-252 プラズマCVD装置(PD-220)
- TH-253 プラズマCVD装置(TEOS)
- TH-254 プラズマCVD装置(Cetus)
- TH-301 CMOS用エッチング装置(F系ガス)
- TH-302 CMOS用エッチング装置(Cl系ガス)
- TH-303 汎用エッチング装置(F系ガス)
- TH-304 汎用エッチング装置(Cl系ガス)
- TH-305 ICP-RIE装置
- TH-306 Si深堀エッチング装置(Deep-RIE)
- TH-307 汎用ICP-RIE装置(CE-300I)
- TH-308 GaN用ICP-RIE装置
- TH-309 XeF2ガスエッチング装置
- TH-310 アッシング装置
- TH-371 UV/オゾン処理装置
- TH-401 酸化・熱処理装置
- TH-402 酸化・熱処理装置(汎用)
- TH-403 熱処理装置
- TH-404 熱処理装置(汎用)
- TH-461 イオン注入装置
- TH-462 リン拡散炉
- TH-501 i線露光装置
- TH-511 コンタクト露光装置(2インチ)
- TH-512 コンタクト露光装置(4インチ)
- TH-513 両面アライン露光装置
- TH-514 マスクレス露光装置
- TH-561 レジスト塗布・現像装置
- TH-562 レジスト塗布装置(MS-B100)
- TH-601 ステルスダイシング装置
- TH-602 ブレードダイシング装置
- TH-631 組立・ボンディング
- TH-632 組立・ボンディング
- TH-701 走査型電子顕微鏡(JSM-7100F)
- TH-702 集束イオンビーム加工装置
- TH-721 共焦点レーザー顕微鏡
- TH-722 金属顕微鏡(LV150)
- TH-723 光学デジタル顕微鏡
- TH-724 フラットネステスタ
- TH-801 干渉膜厚計
- TH-802 段差計
- TH-803 エリプソメータ
- TH-841 4探針抵抗測定装置
- TH-842 セミオートプローバ測定装置
- TH-843 温度可変ステージプローバ測定装置
- TH-844 汎用プローバ測定装置
設置機関：大阪大学