日時
2025年10月20日（月）15:00-16:00
開催方式
オンライン
主催
国立研究開発法人 物質・材料研究開発法人 マテリアル先端リサーチインフラセンターハブ 担当領域推進室
定員
なし（事前登録制）
参加費
無料
参加申し込み
Webフォーム Microsoft Virtual Events Powered by Teams
申込締切：当日まで可
詳細
【セミナー概要】
蒸気二流体洗浄は、半導体洗浄向けに薬液を使用せずに蒸気と純水のみで効果的な洗浄を行う革新的な技術です。パーティクル除去だけでなく、レジスト剥離、反応生成物の除去、CMP後の洗浄、リフトオフ、親水化処理など、様々な用途で使用できます。本セミナーでは、NIMS微細加工ユニットが新たに導入した「蒸気二流体洗浄装置」の技術概要と活用事例について、専門家・メーカーを交えて紹介いたします。
【プログラム】
15：00～15：30 「蒸気2流体洗浄：洗浄のメカニズム」
東京科学大学 環境・社会理工学院 教授 因幡 和晃
15：30～15：45 「蒸気2流体洗浄機の紹介」
HUGパワー株式会社 代表取締役 阿部 文彦
15：45～16：00 「蒸気二流体洗浄装置のNIMS活用事例」
NIMS微細加工ユニット 主任エンジニア 渡辺 英一郎
お問い合わせ
NIMS微細加工ユニット事務局
E-mail : nanofab-admin[at]nims.go.jp
※（[at]を@に置き換えてください）
ホームページ
[URL] https://www.nims.go.jp/arim/index.html
※最新情報は、イベントWebサイトでご確認ください。
