SEM付集束イオンビーム装置
最終更新日：2025年11月7日
| 設備ID | OS-102 |
|---|---|
| 分類 |
微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） 走査型顕微鏡 > 走査型電子顕微鏡 |
| 設備名称 | SEM付集束イオンビーム装置 (Focused ion beam system with SEM) |
| 設置機関 | 大阪大学 |
| 設置場所 | 産業科学研究所N415 |
| メーカー名 | カールツァイス (Carl Zeiss) |
| 型番 | Nvision 40D with NPVE |
| キーワード | SEM-FIBダブルビーム 構造断面解析 GeminiSEM GIS |
| 仕様・特徴 | 【特徴】 30kVのGa+イオンによるFIB加工及び加工時のSEM観察が可能。FIBによる気相蒸着によりPtおよびSiO2による配線の修復が可能。 【仕様】 ステージサイズ：max 4 inch Pt銃、SiO2銃装備 FE-SEMユニット, 加速電圧：30kV 検出器：InLens, SE, Esb FIBユニット, 加速電圧：30kV 最小ビーム径：4nm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=OS-102 |
