磁性薄膜作成評価
本設備の共用は終了しています。
後継の設備や同様の設備は、「共用設備検索」から検索するか「技術サポート・機器利用のお問い合わせ」よりお問い合わせください。
最終更新日：2026年3月31日
| 設備ID | MS-303 |
|---|---|
| 分類 |
合成設備 > その他 成膜装置 > その他 |
| 設備名称 | 磁性薄膜作成評価 (Magnetic thin film creation evaluation) |
| 設置機関 | 自然科学研究機構 分子科学研究所 |
| 設置場所 | 分子研 明大寺地区 |
| メーカー名 | |
| 型番 | |
| キーワード | 磁性薄膜、成膜装置 |
| 仕様・特徴 | 超高真空下での磁性薄膜作成・磁気光学Kerr効果によるその場観察評価。 |
| 設備状況 | 共用を終了した設備です |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=MS-303 |
