エッチングチャンバー
最終更新日：2022年6月6日
| 設備ID | TU-001 |
|---|---|
| 分類 |
表面処理・洗浄 > ウェット処理 膜加工・エッチング > ウェットエッチング |
| 設備名称 | エッチングチャンバー (Draft chamber) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | アズワン (As one) |
| 型番 | PSH1200 |
| キーワード | 酸洗浄、ウェットエッチング（Si, SiO2, 金属など） |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～8インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TU-001 |
