電子ビーム描画装置
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | WS-015 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 電子ビーム描画装置 (Electron Beam Lithography Exposure) |
| 設置機関 | 早稲田大学 |
| 設置場所 | 早稲田大学121号館ナノテクノロジーリサーチセンター |
| メーカー名 | 株式会社エリオニクス (ELIONIX INC.) |
| 型番 | ELS-7500 |
| キーワード | 電子ビーム露光 電子線描画（EB） |
| 仕様・特徴 | 最小線幅：10 nm 基板サイズ10ｍｍ角～4インチ 加速電圧：5～50 kＶ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=WS-015 |
