CCP-RIE装置 [RIE-200NL]
最終更新日：2025年4月1日
| 設備ID | NM-614 |
|---|---|
| 分類 | 膜加工・エッチング > プラズマエッチング |
| 設備名称 | CCP-RIE装置 [RIE-200NL] (CCP-RIE [RIE-200NL]) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS並木地区 MANA棟506号室 |
| メーカー名 | サムコ (samco) |
| 型番 | RIE-200NL |
| キーワード | RIE、平行平板、CCP、フッ素系ガス、プラズマエッチング/ Plasma etching |
| 仕様・特徴 | ・用途：多種材料のドライエッチング ・プラズマ励起方式：平行平板型 ・電源出力：最大300W ・プロセスガス：CHF3，CF4，SF6，Ar，O2，N2 ・試料ステージ温度：室温 ・最大試料サイズ：φ8inch |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=NM-614 |
![CCP-RIE装置 [RIE-200NL]](data/facility_item/NM-614.jpg)