断面試料作製装置（クロスセクションポリッシャ）
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | CT-014 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > イオンミリング（TEM試料作製） |
| 設備名称 | 断面試料作製装置（クロスセクションポリッシャ） (Specimen preparation equipment (CROSS SECTION POLISHER)) |
| 設置機関 | 公立千歳科学技術大学 |
| 設置場所 | F109 |
| メーカー名 | 日本電子 (JEOL) |
| 型番 | IB-09010CP |
| キーワード | SEM用断面試料の作製 イオンミリング（断面加工） |
| 仕様・特徴 | ・イオン加速電圧：2~6 kV ・イオンビーム径：500 μm ・ミリングスピード：100 μm/h ・最大搭載試料サイズ：11 mm(幅) x 10 mm(長さ) x 2 mm(厚さ) ・使用ガス：アルゴンガス |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=CT-014 |
