光学干渉式膜厚計
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-626 |
|---|---|
| 分類 | 膜厚・粒度測定 > 膜厚測定 |
| 設備名称 | 光学干渉式膜厚計 ( Film thickness measurement instruments) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | フィルメトリクス (Filmetrics) |
| 型番 | F20-UV |
| キーワード | 膜厚シミュレーション |
| 仕様・特徴 | 膜厚測定範囲：1nm - 40µm 測定波長域：190-1100nm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=HK-626 |
