原子層堆積装置
最終更新日：2022年6月10日
| 設備ID | HK-616 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 原子層堆積(ALD)装置 |
| 設備名称 | 原子層堆積装置 (Atomic Layer Depositon system) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | ピコサン (Picosun) |
| 型番 | SUNALE-R |
| キーワード | 持ち込み材料可 |
| 仕様・特徴 | 成膜材料：SiO2、TiO2、Al2O3他（原料持ち込み可） 試料サイズ：最大6インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=HK-616 |
