多元スパッタ装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-611 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > スパッタリング（スパッタ） |
| 設備名称 | 多元スパッタ装置 (Multi-target Sputtering sysutem) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | アルバック (Ulvac) |
| 型番 | QAM-4-STS |
| キーワード | 窒化物 酸化物 多層膜自動レシピ |
| 仕様・特徴 | カソード7元（ヘリコン2台含む） 試料：小片～最大Φ100㎜ 垂直成膜可能（25mm角まで） コスパッタ（DC/RF)、逆スパッタ ターゲット：Au、Cr、Pt、Ag他 700度加熱可能 ラジカルイオンガン搭載（N,O) |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=HK-611 |
