超高速スキャン電子線描画装置(130kV)
最終更新日：2022年6月10日
| 設備ID | HK-603 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 超高速スキャン電子線描画装置(130kV) (High-speed scanning electron-beam lithography system(130kV)) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | ELS-F130HM |
| キーワード | 大電流描画 |
| 仕様・特徴 | 加速電圧：130kV 試料サイズ：最大8インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=HK-603 |
