超高精度電子ビーム描画装置(125kV)
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | HK-602 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 電子線描画（EB） |
| 設備名称 | 超高精度電子ビーム描画装置(125kV) (Ultra-high precision electron-beam lithography system(125kV)) |
| 設置機関 | 北海道大学 |
| 設置場所 | 創成科学研究棟クリーンルーム |
| メーカー名 | エリオニクス (ELIONIX) |
| 型番 | ELS-F125 |
| キーワード | 高精度描画 |
| 仕様・特徴 | 加速電圧：125kV 試料サイズ：最大6インチ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=HK-602 |
