赤外透過評価検査・非接触厚み測定機
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-227 |
|---|---|
| 分類 | 膜厚・粒度測定 > 膜厚測定 |
| 設備名称 | 赤外透過評価検査・非接触厚み測定機 (Infrared MEMS Analyzer) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 吉田キャンパス |
| メーカー名 | (株)モリテックス (MORITEX Corporation) |
| 型番 | IRise－T |
| キーワード | 非接触でのボイド等を観察 膜厚測定/ Film thickness measurement |
| 仕様・特徴 | 赤外線により、非接触にて対象物の観察(内部観察）を行い、かつシリコンウェハ上の薄膜の厚みを測定することができる。 ・基板 最大Φ8インチウェハー ・画像分解能 0.26μm/画素 ・厚さ分解能 0.01μm以下( 5～150μm ) |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-227 |
