両面マスクアライナー露光装置
最終更新日：2024年4月2日
| 設備ID | KT-154 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | 両面マスクアライナー露光装置 (Double-Sided Mask Aligner) |
| 設置機関 | 京都大学 |
| 設置場所 | 京都大学 桂キャンパス |
| メーカー名 | ユニオン光学(株) (Union Optical Co., Ltd.) |
| 型番 | PEM-800 |
| キーワード | レジストパターニング ウェハ両面露光 光露光（マスクアライナ）/ Optical exposure (mask aligner) |
| 仕様・特徴 | 実験用両面マスクアライナ ・基板サイズ：Φ4 ・マスクサイズ：□5 ・両面露光、アライメント機能 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=KT-154 |
