マスクアライナ
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-251 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクアライナ） |
| 設備名称 | マスクアライナ (Mask aligner) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | IB電子情報館西棟5階 |
| メーカー名 | ナノテック (Nanometric Technology) |
| 型番 | LA410 |
| キーワード | 光リソグラフィ コンタクト露光 |
| 仕様・特徴 | ・適応マスク：最大 5 inch ・適応資料：最大Φ4 inch ・有効露光範囲：Φ80 mm以上 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=NU-251 |
